講座詳細
| 講座名 | 集積回路設計試作基礎講座 |
|---|---|
| 開催日時 | 平成27年7月16日(木)、17日(金) 10:00～17:00 |
| 講 師 | FAIS 安藤秀幸氏、竹内修三氏 |
| 会 場 | 北九州学術研究都市 共同研究開発センター |
| 講座概要 | 集積回路（IC）の製作はクリーンルームと呼ばれるパーティクル及び温湿度管理された特殊な環境で行われ、一般的に一貫工程で2～4週間ほどの製作期間を要します。本講座は、FAIS共同研究開発センターのクリーンルーム内の微細加工設備によるIC製造プロセスの要素技術及び設計、組立、評価技術を実習形式で体験することで、IC製造に関する理解を深めることを目的とします。 本講座は文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業（https://nanonet.go.jp/）の一環で実施します。 |
| 講座内容 |
【1日目】 [1]はじめに -半導体集積回路製造に不可欠な微細加工技術 -半導体製造プロセスから派生したMEMS製造技術 [2]IC設計手法の概要 -プロセスパラメータについて -MOSFET・INVERTERの回路設計、 シミュレーション及びレイアウト設計実習 【2日目】 [3]IC製造プロセス要素技術実習 -安全講習（クリーンルーム入室に必要な基礎知識） -フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術の実習 [4]組立技術実習 -ウェハダイシング実習 -ダイボンディング及びワイヤーボンディング実習 [5]測定技術実習 -マニュアルプローバ・デバイスアナライザによるFET・INVERTER測定実習 |
| 対象者 |
半導体・エレクトロニクス分野に関わる企業、研究者 ナノテクノロジープラットフォーム利用者 |
| 募集定員 | 10名（定員なり次第締め切ります） |
| 受講料 テキスト代 | ・ 無料 ・ 無料 |
| 備考 | お申込み後、完了画面が表示され、受講受付自動メールが届きます。 ※完了画面が表示されない場合や、メールが届かない場合は、 恐れ入りますが、下記までご連絡ください。 【ご連絡先】 公益財団法人 北九州産業学術推進機構 半導体・エレクトロニクス技術センター TEL：093-695-3007 |
※募集は終了しました。
