メンバー

スタッフ紹介

責任者

上野 孝裕 ... お問い合わせ窓口、利用相談等

技術支援員

安藤 秀幸 ... デバイスプロセス全般、リソグラフィ等
竹内 修三 ... リソグラフィ、薄膜形成、特性評価・分析等

技術支援員装置担当区分

●装置責任者 ◎オペレーティング指導可能 ○操作可能


No. 設備名 メーカー:形式 用途 安藤秀幸 竹内修三








1 イオン注入装置 ULVAC:IMX-3500 B,P,Arのイオン注入
2 酸化炉 リネア:LD-410V ドライ酸化,アンモニア酸化によるSi基板の熱酸化
3 拡散炉 リネア:LD-410V アニール,シンタリング等熱処理
4 スパッタ ANELVA:EB1100 Al系薄膜のスパッタリング(Ar)
5 リアクティブイオンエッチャー samco:RIE-10NR Si系薄膜の反応性イオンエッチングレジストのアッシング等
6 プラズマCVD samco:PD-220 Si系薄膜の堆積
7 減圧CVD samco:LPD-1200 ポリシリコン堆積
8 UVクリーナー samco:UV-1 Siウェハ上の有機物汚染除去(O3によるアッシング)
9 高速熱処理装置 Allwin 21:AccuThermo AW610 イオン注入後の活性化処理Poly-Siのアニール、シリサイド形成
10 レーザーマイクロスコープ KEYENCE:VK-X210 試料の外観観測寸法計測
11 超純水製造装置 日本ミリポア:Milli-Q Integral 10 超純水の供給(能力:1.2L/分)
12 ドラフトチャンバー   SiO2、Si、Al等のエッチングウェハ洗浄






13 電子>ビーム描画装置> エリオニクス:ELS-75OO EBレジストの微細描画
14 スピンコーター ミカサ:MS-A150 フォトレジスト等の回転塗布
15 コータ/ディベロッパ リソテック:CB-50 フォトレジスト塗布,現像
16 マスクアライナー ミカサ:MA-10 コンタクト式等倍露光によるパターン転写
17 両面マスクアライナー SUSS MicroTec AG:SUSS MA6/BA6(MO) 手動方式両面アライメント露光
18 ステッパ Ultratech:1500MVS 紫外線によるパターン転写
19 膜厚測定器 大日本スクリーン:VM-1020 光干渉縞測定による膜厚計測
20 超純水製造装置 メルクミリポア:Elix UV 10、Milli-Q Element A-10 ウェハ洗浄用超純水の製造
21 ドラフトチャンバー   フォトレジストの現像処理




22 電子顕微鏡 日立製作所:S-3400N+EDX 反射電子,二次電子検出による試料外観,断面の観察
23 比抵抗測定器 国際電気:VR-30B 抵抗率,シート抵抗等の測定
24 ダイシングソー DISCO:DAD322 Siウェハ及び難切削材ワークのダイシング
25 ボンディング装置 WESTBOND:7200CR,747677E ICチップのダイボンディングICチップとパッケージ間の結線
26 マニュアルプローバ 日本マイクロニクス:Model-705A チップの電気特性測定用のシールドボックス : マニピュレータ
27 デバイスアナライザ アジレントテクノロジー:B1500A 素子の電気特性測定,マルチ周波数容量測定
28 デジタルマイクロスコープ KEYENCE:VHX-2000 試料の外観観察,寸法測定
29 プリント基板作製装置 T-Tech:Quick Circuit チップ評価用プリント基板ウェハ洗浄の作製