メンバー

スタッフ紹介

責任者

上野　孝裕　...　お問い合わせ窓口、利用相談等

技術支援員

安藤　秀幸（文部科学省ナノテクノロジープラットフォームエキスパート）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　...　デバイスプロセス全般、リソグラフィ等
竹内　修三（文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム高度専門技術者）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　...　リソグラフィ、薄膜形成、特性評価・分析等

技術支援員装置担当区分

●装置責任者　◎オペレーティング指導可能　○操作可能

室
名		 No. 設備名 メーカー：形式 用途 安藤秀幸 竹内修三
ケ
ミ
カ
ル
プ
ロ
セ
ス
装
置
群		 1 イオン注入装置 ULVAC：IMX-3500 B，P，Arのイオン注入 ● ◎
2 酸化炉 リネア：LD-410V ドライ酸化，アンモニア酸化によるSi基板の熱酸化 ● ◎
3 拡散炉 リネア：LD-410V アニール，シンタリング等熱処理 ● ◎
4 プラズマCVD samco：PD-220 Si系薄膜の堆積 ● ◎
5 減圧CVD samco：LPD-1200 ポリシリコン堆積 ● ◎
6 リアクティブイオンエッチャー samco：RIE-10NR Si系薄膜の反応性イオンエッチングレジストのアッシング等 ● ◎
7 スパッタ ANELVA：EB1100 Al系薄膜のスパッタリング（Ar） ● ◎
8 UVクリーナー samco：UV-1 Siウェハ上の有機物汚染除去（O3によるアッシング） ● ◎
9 高速熱処理装置 Allwin 21：AccuThermo AW610 イオン注入後の活性化処理Poly-Siのアニール、シリサイド形成 ● ○
10 レーザーマイクロスコープ KEYENCE：VK-X210 試料の外観観測寸法計測 ● ◎
11 超純水製造装置 日本ミリポア：Milli-Q Integral 10 超純水の供給(能力：1.2L/分) ◎ ●
12 ドラフトチャンバー 　 SiO2、Si、Al等のエッチングウェハ洗浄 ◎ ●
リ
ソ
グ
ラ
フ
ィ
装
置
群		 13 電子>ビーム描画装置> エリオニクス：ELS-75OO EBレジストの微細描画 ◎ ●
14 コータ/ディベロッパ リソテック：CB-50 フォトレジスト塗布，現像 ◎ ●
15 スピンコーター ミカサ：MS-A150 フォトレジスト等の回転塗布 ◎ ●
16 ステッパ Ultratech：1500MVS 紫外線によるパターン転写 ● ◎
17 マスクアライナ ミカサ：MA-10 コンタクト式等倍露光によるパターン転写 ◎ ●
18 両面マスクアライナー SUSS MicroTec AG：SUSS MA6/BA6（MO） 手動方式両面アライメント露光 ◎ ●
19 膜厚測定器 大日本スクリーン：VM-1020 光干渉縞測定による膜厚計測 ◎ ●
20 超純水製造装置 メルクミリポア：Elix UV 10、Milli-Q Element A-10 ウェハ洗浄用超純水の製造 ◎ ●
21 ドラフトチャンバー 　 フォトレジストの現像処理 ◎ ●
22 EDAツール Tanner：Tanner Tools Pro IC,MEMSデータ設計 ● ◎
組
立
測
定
装
置
群		 23 走査型電子顕微鏡 日立製作所：S-3400N+EDX 反射電子，二次電子検出による試料外観，断面の観察 ◎ ●
24 ダイシングソー DISCO：DAD322 Siウェハ及び難切削材ワークのダイシング ○ ●
25 ボンディング装置 WESTBOND：7200CR，747677E ICチップのダイボンディングICチップとパッケージ間の結線 ◎ ●
26 比抵抗測定器 国際電気：VR-30B 抵抗率，シート抵抗等の測定 ● ◎
27 マニュアルプローバ 日本マイクロニクス：Model-705A チップの電気特性測定用のシールドボックス ： マニピュレータ ● ◎
28 デバイスアナライザ アジレントテクノロジー：B1500A 素子の電気特性測定,マルチ周波数容量測定 ● ◎
29 デジタルマイクロスコープ KEYENCE：VHX-2000 試料の外観観察，寸法測定 ● ◎