施設の紹介
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半導体試作施設

共同研究開発センター(産学連携センター2号館)

ケミカルプロセス室 (クリーンルーム)

シランを使った成膜(Poly-Si、SiO2、Si3N4)、イオン注入、ドライエッチングなど、IC試作全工程が可能です。また酸及び有機用のドラフトチャンバでは、薬品を使った様々な実験が出来ます。(但し、薬品持込については事前にご相談ください)

【機器・設備】
イオン注入装置、酸化・拡散炉、スパッタ、リアクティブイオンエッチャー、プラズマCVD、減圧CVD、超純水製造装置など

ケミカルプロセス室 プラズマCVD装置 イオン注入装置
イエロールーム (クリーンルーム)

紫外線、レーザー光を使ったフォトリソグラフィを行います。ステッパーによるマスクパターン転写の他、レーザー描画装置による直接描画も可能です。レーザー描画装置を用いて、精度の良いマスク作製が可能です。干渉縞を応用した膜厚測定器によりPoly-Si、SiO2、Si3N4、レジスト等の膜厚を測定することができます。

【機器・設備】
レーザービーム描画装置、コーター/ディベロッパー、ステッパー、膜厚測定器、パターン寸法測定器など

レーザービーム露光装置 コーター/ディペロッパー ステッパー
組立・測定室

作製したデバイスの電気特性を評価するスペースです。半導体デバイスアナライザにより、トランジスタの各種電気特性を測定できます。マニュアルプローバーによりウェハ、チップレベルで直接針を当てて測定できます。また、電子顕微鏡により微細パターン観察ができます。マニュアルワイヤーボンダーによりセラミックパッケージへのワイヤリングも可能です。

【機器・設備】
電子顕微鏡(元素分析機能付)、ワイヤーボンダー、マニュアルプローバー、恒温恒湿槽など

半導体デバイスアナライザ 電子顕微鏡(元素分析機能付)
マイクロプロセス室

銅メッキされた基板上に配線パターンを刻印する装置で、オリジナル
プリント基板を作製できます。薬品を使わないので手軽に速く作製
できます。半田付け加工、各種工作、評価等にも、多目的に使える
スペースです。

【機器・設備】
プリント基板製作装置、作業台、工具、半田槽、測定器
(電源、オシロスコープ、ファンクションジェネレータ等)

レイアウト設計室

フォトマスクのレイアウト設計をCADを使って行います。
ここで作成したデータを、レーザー描画装置にネットワーク
経由で転送し、マスクを作製します。

【機器・設備】
レイアウトCAD

【ご利用に関するお問合せ】
共同研究開発センター1階機器管理団体
一般財団法人ファジィシステム研究所
担当:研究部 安藤、竹内、江口
TEL:093-695-3600
 E-Mail:こちらです
 
【おしらせ】
北九州産業学術推進機構(以下、FAIS)は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業において、微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムの一員として参加しています。 詳しくは、FAIS微細加工プラットフォームのホームページをご覧ください。

公益財団法人北九州産業学術推進機構(FAIS)
〒808-0135北九州市若松区ひびきの2-1
TEL:(093)695-3111

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