半導体試作施設
共同研究開発センター（産学連携センター2号館）
ケミカルプロセス室 （クリーンルーム）
シランを使った成膜（Ｐｏｌｙ－Ｓｉ、ＳｉO2、Ｓｉ3Ｎ4）、イオン注入、ドライエッチングなど、ＩＣ試作全工程が可能です。また酸及び有機用のドラフトチャンバでは、薬品を使った様々な実験が出来ます。（但し、薬品持込については事前にご相談ください）
【機器・設備】
イオン注入装置、酸化・拡散炉、スパッタ、リアクティブイオンエッチャー、プラズマＣＶＤ、減圧ＣＶＤ、超純水製造装置など
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| ケミカルプロセス室 | プラズマＣＶＤ装置 | イオン注入装置 |
イエロールーム （クリーンルーム）
紫外線、レーザー光を使ったフォトリソグラフィを行います。ステッパーによるマスクパターン転写の他、レーザー描画装置による直接描画も可能です。レーザー描画装置を用いて、精度の良いマスク作製が可能です。干渉縞を応用した膜厚測定器によりＰｏｌｙ－Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、レジスト等の膜厚を測定することができます。
【機器・設備】
レーザービーム描画装置、コーター/ディベロッパー、ステッパー、膜厚測定器、パターン寸法測定器など
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| レーザービーム露光装置 | コーター/ディペロッパー | ステッパー |
組立・測定室
作製したデバイスの電気特性を評価するスペースです。半導体デバイスアナライザにより、トランジスタの各種電気特性を測定できます。マニュアルプローバーによりウェハ、チップレベルで直接針を当てて測定できます。また、電子顕微鏡により微細パターン観察ができます。マニュアルワイヤーボンダーによりセラミックパッケージへのワイヤリングも可能です。
【機器・設備】
電子顕微鏡（元素分析機能付）、ワイヤーボンダー、マニュアルプローバー、恒温恒湿槽など
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| 半導体デバイスアナライザ | 電子顕微鏡（元素分析機能付） |
マイクロプロセス室
銅メッキされた基板上に配線パターンを刻印する装置で、オリジナル
プリント基板を作製できます。薬品を使わないので手軽に速く作製
できます。半田付け加工、各種工作、評価等にも、多目的に使える
スペースです。
【機器・設備】
プリント基板製作装置、作業台、工具、半田槽、測定器
（電源、オシロスコープ、ファンクションジェネレータ等）
レイアウト設計室
フォトマスクのレイアウト設計をＣＡＤを使って行います。
ここで作成したデータを、レーザー描画装置にネットワーク
経由で転送し、マスクを作製します。
【機器・設備】
レイアウトＣＡＤ
