半導体試作施設（共同研究開発センター）
ケミカルプロセス室 （クリーンルーム）
シランを使った成膜（Poly－Si、SiO2、Si3N4）、イオン注入、ドライエッチングなど、IC試作全工程が可能です。また酸及び有機用のドラフトチャンバでは、薬品を使った様々な実験が出来ます。（但し、薬品持込については事前にご相談ください）
【機器・設備】
イオン注入装置、酸化・拡散炉、スパッタ、リアクティブイオンエッチャー、プラズマCVD、減圧CVD、超純水製造装置など
 ケミカルプロセス室 |
 プラズマCVD装置 |
 イオン注入装置 |
イエロールーム （クリーンルーム）
紫外線、電子線光を使ったフォトリソグラフィを行います。ステッパーによるマスクパターン転写の他、電子線描画装置による直接描画も可能です。電子線描画装置を用いて、精度の良いマスク作製が可能です。干渉縞を応用した膜厚測定器によりPoly－Si、SiO2、Si3N4、レジスト等の膜厚を測定することができます。
【機器・設備】
電子線ビーム描画装置、コーター/ディベロッパー、ステッパー、膜厚測定器、パターン寸法測定器など
 レーザービーム露光装置 |
 コーター/ディペロッパー |
 ステッパー |
組立・測定室
作製したデバイスの電気特性を評価するスペースです。半導体デバイスアナライザにより、トランジスタの各種電気特性を測定できます。マニュアルプローバーによりウェハ、チップレベルで直接針を当てて測定できます。また、電子顕微鏡により微細パターン観察ができます。マニュアルワイヤーボンダーによりセラミックパッケージへのワイヤリングも可能です。
【機器・設備】
電子顕微鏡（元素分析機能付）、ワイヤーボンダー、マニュアルプローバー、恒温恒湿槽など
 半導体デバイスアナライザ |
 電子顕微鏡（元素分析機能付） |
マイクロプロセス室
銅メッキされた基板上に配線パターンを刻印する装置で、オリジナル
プリント基板を作製できます。薬品を使わないので手軽に速く作製
できます。半田付け加工、各種工作、評価等にも、多目的に使える
スペースです。
【機器・設備】
プリント基板製作装置、作業台、工具、半田槽、測定器
（電源、オシロスコープ、ファンクションジェネレータ等）
レイアウト設計室
フォトマスクのレイアウト設計をCADを使って行います。
ここで作成したデータを、レーザー描画装置にネットワーク
経由で転送し、マスクを作製します。
【機器・設備】
レイアウトCAD
【ご利用に関するお問合せ】
共同研究開発センター１階機器管理団体
一般財団法人ファジィシステム研究所
担当：研究部
TEL：093-695-3600
お問い合わせ:こちらです
【おしらせ】
北九州産業学術推進機構（以下、FAIS）は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業において、微細加工ナノプラットフォームコンソーシアムの一員として参加しています。 詳しくは、FAIS微細加工プラットフォームのホームページをご覧ください。
